依据美国联邦政府颁布的标准[Federal Standard (FS) 209E, 1992],可将无尘室分为六级。
分别是1级、10级、100级、1000级、10000级、100000级。
如果无尘室的等级只用尘粒数目来叙述,则可假设尘粒的尺寸为0.5µm,例如,1级、10级、100级无尘室最大尘粒数目分别小于或等于1颗、10颗、100颗,如果尘粒尺寸不是0.5µm,无尘室等级应以在一特定尘粒尺寸的级数来表示。
例如:10级在0.2µm(尘粒尺寸在0.2µm或更大下,密度不大于75颗/立方英),1级在0.1µm(尘粒尺寸在0.1µm或更大下,密度不大于35颗/立方英)而集成电路制造所需的无尘室之洁净度必须优于1000级。
为保持无尘室的洁净度,进出的人员有一定的穿著规定;10000与100000级,必须穿著长袍无尘衣、无尘鞋、带帽子与面罩;1000级(含)以上,需穿著特殊的洁净连身衣、无尘鞋将全身裹住,并带上手套和面罩,下表为无尘室清洁度的定义:
所谓的无尘室是一个人造的环境,里面含有的粒子远低于一般的环境,随着集成电路技术的快速成长,也增加了对制造环境(无尘室)洁静度的需求,在工业上即使粒子之尺寸小于1微米,也可能阻碍产品的运作或降低其寿命。
由于奈米技术的兴起,造成半导体关键尺寸持续缩小,集成电路积集度不断的增加,尘粒更容易使芯片失效或可靠度恶化。例如当金属尘粒地落到金属导线时,就可能会使金属导线形成短路。又如果有酸性的离子化合物尘粒掉在金属导线上,可能将其腐蚀,所以无尘室为集成电路制造不可或缺的要素。
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